Bias voeding voor RF-plasma reactors
Ontwikkeling van een plasma aansturing voor het nauwkeuriger produceren van IC’s
Wat is het?
RF-plasma reactors worden bij de productie van halfgeleiders gebruikt voor verschillende doeleinden. Zoals etsen en depositie van lagen op IC’s. Hoe beter de controle over het plasma, hoe nauwkeuriger en kleiner de IC’s geproduceerd kunnen worden.
De ontwikkeling
Ik heb samen onderzoekers op het gebied van plasmafysica metingen verricht aan plasma reactorprocessen en op basis daarvan een elektronica topologie bedacht en ontwikkeld die meer controle geeft over het plasma. Dit resulteert is een nauwkeuriger productieproces.
De vermogenselektronica topologie is gepatenteerd.
Aan de slag met elektronica-ontwikkeling?
Ben je benieuwd hoe ik kan helpen?
Neem contact op, dan bespreken we je vraagstuk.
Stuur een e-mail naar anton@adevelops.nl
Bel me op +316-17262694
Of gebruik het contactformulier, dan neem ik contact met je op om een gesprek te plannen.
